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Nouvelles approches d’utilisation de la spectroscopie de photoélectrons à rayons X (XPS) pour le développement et le contrôle des technologies FDSOI avancées
Laurent Fauquier
couche
germanium
figure
silicium
sio2
parxps
profil
couches
d’épaisseur
technique
composition
profondeur
pourcentage
mesures
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industriel
l’épaisseur
pic
l’échantillon
hfo2
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angles
spectre
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l’xps
présente
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profils
paramètre
pics
déterminer
échantillons
l’énergie
surface
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l’empilement
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présentant
liaison
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énergie
obtenus
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